Apple 獲得嵌入式 Face ID 專利
新專利顯示 Face ID 融入屏幕下方技術，或將於 iPhone 17 系列中首次亮相。
Apple 獲得一項新專利，允許將 Face ID 技術嵌入到屏幕下方。此技術突破有助於縮小攝像頭開孔的尺寸，這一功能早已傳聞正在開發中。目前業界猜測這項技術可能會隨 iPhone 17 系列首次亮相。
將 Face ID 感測器和發射器嵌入屏幕下方的構想並不新穎。Apple 多年來的專利均描述了一種方法，即通過屏幕實現影像捕捉，用於面部識別及其他應用。其中一項引人注目的專利來自 2021 年，該專利詳述了如何通過將光學元件放置在屏幕的主動區域背後，節省顯示屏空間，從而消除劉海設計。
儘管早前有預測認為屏幕下方 Face ID 技術將應用於 iPhone 15 和 iPhone 16 型號，但這一進展並未實現。然而，根據 Patently Apple 的報導，Apple 最近申請的專利顯示其在整合這一技術上取得了新的進展。
這項專利描述了在顯示屏後方放置光學輻射源的設計，支持 3D 建模和面部識別等應用。這種設計不僅可最大化顯示區域，還符合 Apple 對更時尚、流線型設備的設計願景。
有兩個有力的理由相信這項技術可能會首次出現在 iPhone 17 系列中。首先，業界分析師 Jeff Pu 報告稱，該系列至少有一款型號（可能是 iPhone 17 Pro Max）將採用顯著縮小的「Dynamic Island」屏幕開孔。將 Face ID 嵌入屏幕下方將是一個實現這種設計改進的合理解決方案。
其次，Apple 據報正在開發一款 iPhone 17 Air 型號，目標是實現極致的外觀設計。這款設計可能將 Dynamic Island 縮減為僅用於攝像頭的簡單打孔設計，這與 Apple 的高端美學目標一致。有報導稱，Air 型號的價格可能會高於 Pro Max，其獨特的設計與技術創新（包括可能採用的屏幕下方 Face ID）將為這一溢價提供合理性。
雖然 Apple 之前已延遲在其他型號中推出該功能，但 2025 年可能會是它正式亮相的年份，無論是出現在 iPhone 17 Pro Max、iPhone 17 Air，還是兩者皆有。隨著 Apple 繼續將設計創新放在優先地位，將 Face ID 嵌入屏幕下方的舉措可能成為其重要的技術進步之一。