Apple 獲得一項新專利,允許將 Face ID 技術嵌入到屏幕下方。此技術突破有助於縮小攝像頭開孔的尺寸,這一功能早已傳聞正在開發中。目前業界猜測這項技術可能會隨 iPhone 17 系列首次亮相。
將 Face ID 感測器和發射器嵌入屏幕下方的構想並不新穎。Apple 多年來的專利均描述了一種方法,即通過屏幕實現影像捕捉,用於面部識別及其他應用。其中一項引人注目的專利來自 2021 年,該專利詳述了如何通過將光學元件放置在屏幕的主動區域背後,節省顯示屏空間,從而消除劉海設計。
儘管早前有預測認為屏幕下方 Face ID 技術將應用於 iPhone 15 和 iPhone 16 型號,但這一進展並未實現。然而,根據 Patently Apple 的報導,Apple 最近申請的專利顯示其在整合這一技術上取得了新的進展。
這項專利描述了在顯示屏後方放置光學輻射源的設計,支持 3D 建模和面部識別等應用。這種設計不僅可最大化顯示區域,還符合 Apple 對更時尚、流線型設備的設計願景。