Apple Secures Patent for Face ID Embedded Under Display

Apple（苹果公司）已获得一项关于Face ID嵌入屏幕下方的技术专利。这一技术进步将显著减少摄像头开孔的面积，这一设计早已在业内传闻已久。据推测，这项技术或将在iPhone 17系列中首次亮相。

将Face ID传感器和发射器嵌入屏幕下的概念并非新鲜事。多年来，Apple的专利文件中多次提到通过屏幕实现图像捕捉的技术，用于人脸识别等应用。一项2021年的显著专利描述了该技术如何通过将光学元件放置于屏幕活跃区域的后方节省显示空间，从而完全取消“刘海”的设计。

尽管此前预测认为Face ID屏下技术会出现在iPhone 15和iPhone 16型号上，但这一进展并未如期而至。然而，根据Patently Apple的报道，Apple近期获得的这项新专利表明，该公司正向这一方向取得新的进展。

该专利描述了一种将光学辐射源置于屏幕背后的设计，支持3D建模和人脸识别等功能。这种设计不仅能够最大化屏幕显示区域，还符合Apple对更流线型设备的设计愿景。

有两个重要原因让人相信该技术可能会在iPhone 17系列中首次亮相。首先，行业分析师Jeff Pu报告称，iPhone 17系列中至少有一个型号（可能是iPhone 17 Pro Max）将采用更小的“Dynamic Island”显示开孔。而将Face ID嵌入屏幕下方是实现这一设计改进的合理解决方案。

其次，据报道，Apple正致力于打造一款名为iPhone 17 Air的新机型，目标是实现极致纤薄的外形设计。这款设备可能将Dynamic Island进一步缩小为一个单独的摄像头开孔，以贴合Apple的高端美学追求。据称，这款Air型号的定价可能会高于Pro Max，其溢价将主要体现在独特的设计和包括屏下Face ID在内的创新技术上。

尽管Apple此前多次推迟推出这一功能，但2025年可能成为其正式亮相的一年，或许是在iPhone 17 Pro Max、iPhone 17 Air，或是两者中同时实现。随着Apple持续推进设计革新，将Face ID嵌入屏幕下可能成为其迈向未来的重要一步。